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        等離子體增強化學氣相沉積系統(PECVD)

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        等離子體增強化學氣相沉積系統(PECVD)

        等離子體增強化學氣相沉積系統(PECVD),符合CE認證標準的三溫區CVD系統,生長樣品腔的管徑60-120mm,它是由高溫管式爐、多路高精度流量控制與供氣系統、機械泵、真空密封及測量系統、尾氣處理系統組成,極限真空度可達 10^-5 torr 。

        主要特點:

        1,優勢在于各種薄膜材料、低維納米材料等的制備(尤其適用于過渡金屬二維半導體材料的生長與原位摻雜,以及多元二維材料的生長)

        2,可選配遠程等離子射頻發生系統,可用于各種薄膜材料、低維納米材料等的等離子體輔助生長、刻蝕加工與材料表面修飾(尤其適用于石墨烯、氮化硼等二維材料的無催化生長,缺陷調控,以及器件制作工藝中的殘膠去除)

        3,生長工藝設計先進,能滿足任意襯底無催化生長

        4,應用案例(點擊跳轉)

         

        設備主要技術參數

        溫控參數 單位
        溫度 1200
        功率 6.5 kw
        溫控精度 ±1
        真空系統
        真空泵 1 x 10-3 (7.5 x 10-4) mbar (Torr)
        真空泵(開氣鎮) 1.5 x 10-2 (1.1 x 10-2) mbar (Torr)
        真空泵(使用PEPE 油) 1 x 10-2(7.5 x 10-3) mbar (Torr)
        腔體內真空度 優于2.0*10-2 Torr
        流量控制參數
        泄露率 <4×10-9 atm-cc/secHe
        分辨率 全量程的0.1%
        響應時間氣特性 <2 s
        響應時間電特性 500 ms
        尾氣吸收參數
        材質 殼體鋁合金、不銹鋼
        吸氣腔 聚四氟乙烯
        等離子體系統參數
        功率輸出 5 – 300,5 – 500 W
        信號頻率 13.56 ±0.005% MHz
        反射功率 200 W
        功率穩定度 ±0.1%
        諧波分量 ≤-50 dbc
        供電電壓 187V – 253V —- 頻率50/60HZ

        以上就是東莞市卓聚科技有限公司提供的等離子體增強化學氣相沉積系統(PECVD)的介紹,了解更多直接咨詢:15601314981

         

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